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超高真空光电子能谱系统
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本超高真空光电子能谱(UHV-PES)分析系统是一款模块化的高性能表面分析平台,专为在超高真空环境中对各种纳米材料进行光电子能谱实验而设计。系统集成了分析室与快速进样室(Load-lock),支持变温样品控制,并提供完整的PLC自动化保护与Spectrium软件控制,可满足从基础表面科学到先进材料研究的大多数需求。
系统基于光电子能谱(PES) 技术——利用光电效应测量光子照射物质后发射的光电子动能分布,可提供定量成分、原子键特性、层厚度等关键表面与薄层信息。PES是常用的表面测试和薄层检查方法之一。

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本超高真空光电子能谱(UHV-PES)分析系统是一款模块化的高性能表面分析平台,专为在超高真空环境中对各种纳米材料进行光电子能谱实验而设计,样品温度可控。系统集成了分析室与快速进样室(Load-lock),支持

变温样品控制,并提供完整的PLC自动化保护与Spectrium软件控制,可满足从基础表面科学到先进材料研究的大多数需求。

这些系统包括一个分析室和一个负载锁定室,以便于快速地加载基板。泵送系统与分析室的标准容积相结合,可将基本压力降至 10-11mbar,具体取决于泵的配置。

系统基于光电子能谱(PES) 技术——利用光电效应测量光子照射物质后发射的光电子动能分布,可提供定量成分、原子键特性、层厚度等关键表面与薄层信息。PES是常用的表面测试和薄层检查方法之一。

光电子能谱(PES)是一种实验技术,也是电子能谱的主要变体。该方法基于光电现象和光电子动能分布分析。发射的能量是由表面样品被电磁辐射激发产生的。 

包括分析性 PES 技术: 

  • XPS – X 射线光电子能谱 

  • HAXPE – 硬 X 射线光谱 

  • UPS – 紫外光电子能谱 

  • ARPES – 角度分辨光电子能谱 

附加技术: 

  • IPES – 逆光电子发射光谱 

  • LEIPS – 低能逆光电子能谱 

  • AES – 螺旋电子能谱 

  • EELS – 电子能量损失光谱 

  • ISS – 离子散射光谱 

满足 XPS / UPS / ARPES / AES / EELS / ISS / IPES / LEIPS 技术领域大多数研究需求的标准解决方案

实验程序完全自动化 

垂直或水平样品方向 

半球形能量分析仪 EA15 UHV 带设备 

带单色仪的高功率双阳极 X 射线源 – AlKα 和 AgLα,带电源

高功率双阳极、非单色 X 射线源 – AlKα 和 MgKα,带电源

带电源的紫外线源

带电源的洪水源

用于深度分析或清洁的离子源

电动或手动 4-6 轴机械手,接收站可实现LHe/LN2高温高达1400°C

不同的样品架尺寸:从 10×10 毫米到 1 英寸

分析室直径 Ø 310 mm

基本压力降至 10-11mbar,取决于泵的配置

泵送系统(基于备用泵、TMP、离子泵和 TSP)

带设备的真空计

样品架的负载锁定室

从负载锁定到分析室的可靠、快速的线性传输系统

视口 - 观察窗口

烘烤系统 

系统的可调节刚性主机架 

带电子单元的 19 英寸机柜

通过 Spectrium 软件和 PLC 单元完全控制分析过程和设备

分析室配备了符合特高压标准的连接法兰,用于连接当前和未来的设备,包括:

  • 带设备的半球形能量分析仪,

  • 带电源的 X 射线双阳极单色源,

  • 带电源的 X 射线双阳极非单色源,

  • 带电源的紫外单声道光源,

  • 带电源的紫外线源,

  • 带电源的中和源,

  • 带电源的电子源,

  • 离子源与电源,用于深度分析或清洁,

  • 带电源的气体簇离子源,

  • 具有宽温度范围的样品机械手(从 LHe/LN2 1400°C),

  • 泵组(基于备用泵、TMP、离子泵和TSP,具有大面积LN2),

  • 带设备的真空计,

  • 线性传输系统的入口端口,例如从负载锁到分析室,

  • 样品架的负载锁定室,

  • LEED与设备,

  • IPES / LEIPS 带设备,

  • 视口 – 观察窗口,

  • 残余气体分析仪。

系统的设计和功能取决于系统配置。 

泵送系统是不同类型泵的组合,例如前真空泵、离子泵、涡轮泵或具有大面积 LN 的钛热升华泵2护罩,根据特定应用需求单独选择,以实现优异的泵送性能。 

如果需要,该系统的模块化设计允许通过径向分配传输解决方案或传输隧道与任何其他研究平台组合和集成。 

Spectrium 分析控制软件允许半球形能量分析仪和各种类型的源的集成和完美配合,从而轻松编写配方、自动测量控制和大量数据记录。允许基于 Tango 开源设备集成新的附加组件。

本UHV光电子能谱系统广泛应用于以下研究领域:

领域典型研究课题
表面科学清洁表面电子结构、吸附与反应、表面重构
二维材料石墨烯、过渡金属硫化物、拓扑绝缘体能带结构(ARPES)
半导体与器件异质结能带排列、功函数、界面态、掺杂效应
催化科学模型催化剂表面活性物种的电子与化学态
能源材料电池电极、钙钛矿太阳能电池界面电子结构
磁性材料自旋分辨光电子能谱、磁性多层膜
薄膜与涂层层厚、成分、界面扩散深度剖析(配合离子刻蚀)
纳米材料量子点、纳米线、纳米颗粒的表面化学态

本超高真空光电子能谱分析系统是一款高度模块化、全自动化、宽温区的表面分析平台。它在一个系统中集成了从XPS/UPS/ARPES到AES/EELS/ISS/IPES等多种PES相关技术,并可灵活配置激发源、分析器、样品处理及

真空泵送模块。系统基础压力可低至10⁻¹¹ mbar,样品温度覆盖LHe低温至1400°C,能够满足苛刻的表面科学研究需求。无论您需要原子级清洁表面的高分辨谱学,还是复杂薄膜体系的深度剖析,本系统都能提供标准化的

决方案。 如需进一步了解系统配置、定制方案或报价,欢迎联系我们。







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本超高真空光电子能谱(UHV-PES)分析系统是一款模块化的高性能表面分析平台,专为在超高真空环境中对各种纳米材料进行光电子能谱实验而设计。系统集成了分析室与快速进样室(Load-lock),支持变温样品控制,并提供完整的PLC自动化保护与Spectrium软件控制,可满足从基础表面科学到先进材料研究的大多数需求。
系统基于光电子能谱(PES) 技术——利用光电效应测量光子照射物质后发射的光电子动能分布,可提供定量成分、原子键特性、层厚度等关键表面与薄层信息。PES是常用的表面测试和薄层检查方法之一。

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本超高真空光电子能谱(UHV-PES)分析系统是一款模块化的高性能表面分析平台,专为在超高真空环境中对各种纳米材料进行光电子能谱实验而设计,样品温度可控。系统集成了分析室与快速进样室(Load-lock),支持

变温样品控制,并提供完整的PLC自动化保护与Spectrium软件控制,可满足从基础表面科学到先进材料研究的大多数需求。

这些系统包括一个分析室和一个负载锁定室,以便于快速地加载基板。泵送系统与分析室的标准容积相结合,可将基本压力降至 10-11mbar,具体取决于泵的配置。

系统基于光电子能谱(PES) 技术——利用光电效应测量光子照射物质后发射的光电子动能分布,可提供定量成分、原子键特性、层厚度等关键表面与薄层信息。PES是常用的表面测试和薄层检查方法之一。

光电子能谱(PES)是一种实验技术,也是电子能谱的主要变体。该方法基于光电现象和光电子动能分布分析。发射的能量是由表面样品被电磁辐射激发产生的。 

包括分析性 PES 技术: 

  • XPS – X 射线光电子能谱 

  • HAXPE – 硬 X 射线光谱 

  • UPS – 紫外光电子能谱 

  • ARPES – 角度分辨光电子能谱 

附加技术: 

  • IPES – 逆光电子发射光谱 

  • LEIPS – 低能逆光电子能谱 

  • AES – 螺旋电子能谱 

  • EELS – 电子能量损失光谱 

  • ISS – 离子散射光谱 

满足 XPS / UPS / ARPES / AES / EELS / ISS / IPES / LEIPS 技术领域大多数研究需求的标准解决方案

实验程序完全自动化 

垂直或水平样品方向 

半球形能量分析仪 EA15 UHV 带设备 

带单色仪的高功率双阳极 X 射线源 – AlKα 和 AgLα,带电源

高功率双阳极、非单色 X 射线源 – AlKα 和 MgKα,带电源

带电源的紫外线源

带电源的洪水源

用于深度分析或清洁的离子源

电动或手动 4-6 轴机械手,接收站可实现LHe/LN2高温高达1400°C

不同的样品架尺寸:从 10×10 毫米到 1 英寸

分析室直径 Ø 310 mm

基本压力降至 10-11mbar,取决于泵的配置

泵送系统(基于备用泵、TMP、离子泵和 TSP)

带设备的真空计

样品架的负载锁定室

从负载锁定到分析室的可靠、快速的线性传输系统

视口 - 观察窗口

烘烤系统 

系统的可调节刚性主机架 

带电子单元的 19 英寸机柜

通过 Spectrium 软件和 PLC 单元完全控制分析过程和设备

分析室配备了符合特高压标准的连接法兰,用于连接当前和未来的设备,包括:

  • 带设备的半球形能量分析仪,

  • 带电源的 X 射线双阳极单色源,

  • 带电源的 X 射线双阳极非单色源,

  • 带电源的紫外单声道光源,

  • 带电源的紫外线源,

  • 带电源的中和源,

  • 带电源的电子源,

  • 离子源与电源,用于深度分析或清洁,

  • 带电源的气体簇离子源,

  • 具有宽温度范围的样品机械手(从 LHe/LN2 1400°C),

  • 泵组(基于备用泵、TMP、离子泵和TSP,具有大面积LN2),

  • 带设备的真空计,

  • 线性传输系统的入口端口,例如从负载锁到分析室,

  • 样品架的负载锁定室,

  • LEED与设备,

  • IPES / LEIPS 带设备,

  • 视口 – 观察窗口,

  • 残余气体分析仪。

系统的设计和功能取决于系统配置。 

泵送系统是不同类型泵的组合,例如前真空泵、离子泵、涡轮泵或具有大面积 LN 的钛热升华泵2护罩,根据特定应用需求单独选择,以实现优异的泵送性能。 

如果需要,该系统的模块化设计允许通过径向分配传输解决方案或传输隧道与任何其他研究平台组合和集成。 

Spectrium 分析控制软件允许半球形能量分析仪和各种类型的源的集成和完美配合,从而轻松编写配方、自动测量控制和大量数据记录。允许基于 Tango 开源设备集成新的附加组件。

本UHV光电子能谱系统广泛应用于以下研究领域:

领域典型研究课题
表面科学清洁表面电子结构、吸附与反应、表面重构
二维材料石墨烯、过渡金属硫化物、拓扑绝缘体能带结构(ARPES)
半导体与器件异质结能带排列、功函数、界面态、掺杂效应
催化科学模型催化剂表面活性物种的电子与化学态
能源材料电池电极、钙钛矿太阳能电池界面电子结构
磁性材料自旋分辨光电子能谱、磁性多层膜
薄膜与涂层层厚、成分、界面扩散深度剖析(配合离子刻蚀)
纳米材料量子点、纳米线、纳米颗粒的表面化学态

本超高真空光电子能谱分析系统是一款高度模块化、全自动化、宽温区的表面分析平台。它在一个系统中集成了从XPS/UPS/ARPES到AES/EELS/ISS/IPES等多种PES相关技术,并可灵活配置激发源、分析器、样品处理及

真空泵送模块。系统基础压力可低至10⁻¹¹ mbar,样品温度覆盖LHe低温至1400°C,能够满足苛刻的表面科学研究需求。无论您需要原子级清洁表面的高分辨谱学,还是复杂薄膜体系的深度剖析,本系统都能提供标准化的

决方案。 如需进一步了解系统配置、定制方案或报价,欢迎联系我们。







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