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HPPES 高压光电子能谱系统适用于压力范围 2×10 -9mbar – 50 mbar的光电子能谱实验,样品温度可控。系统适用于在 UHV 或环境压力条件下分析各种纳米材料。
该系统包括一个分析室和一个负载锁定室,便于快速地加载样品。它提供完整的PLC保护和软件控制,包括机器状态的清晰可视化、数据采集以及所有集成设备、电源和辅助设备的控制。
光电子能谱(PES)是一种实验技术,也是电子能谱的主要变体。该方法基于光电现象和光电子动能分布分析。发射的能量是由表面样品被电磁辐射激发产生的。
PES 技术是较常用的表面测试和薄层检查方法。它提供的信息:定量成分、原子键特性、层厚度。基本过程(光效应)测量由于光子照射物质而产生的光电子发射。
包括分析性 PES 技术:
XPS – X 射线光电子能谱
HAXPES – 硬 X 射线光谱
UPS – 紫外光电子能谱
ARPES – 角度分辨光电子能谱
附加技术:
IPES – 逆光电子发射光谱
LEIP – 低能逆光电子能谱
AES – 螺旋电子能谱
EELS – 子能量损失光谱
ISS – 离子散射光谱
满足以下领域大多数研究需求的标准解决方案:
– XPS / UPS / ARPES / AES / EELS / ISS / IPES / LEIPS 技术 |特高压条件
– HPXPS / APXPS / APUPS 技术 |环境压力条件
实验程序完全自动化
回填配置
高压半球形能量分析仪 EA15-HP5 / EA15-HP50 带设备
高压、高功率双阳极 、X 射线源,带单色仪 – AlKα 和 AgLα,带电源
高压、高功率双阳极、非单色 X 射线源 – AlKα 和 MgKα,带电源
带电源的紫外线源
带电源的中和源
用于深度分析或清洁的离子源
电动或手动 4-6 轴机械手,接收站能够达到LHe/LN2高达 1400°C
不同的样品架尺寸:从 10×10 毫米到 2 英寸
分析室直径 310 毫米
基本压力降至 10-9mbar,取决于泵的配置
泵送系统(基于备用泵,带低温防护罩的 TMP 和 TSP)
全自动气体计量设置
带设备的真空计
样品架的负载锁定室
从load-lock到分析室的可靠、快速的线性传输系统
视口 – 观察窗口,带摄像头
烘烤系统
系统的可调节刚性主机架
带电子单元的 19 英寸机柜
通过 Spectrium 软件和 PLC 单元完全控制分析过程和设备
分析室配备了符合特高压标准的连接法兰,用于连接当前和未来的设备,包括:
带设备的高压半球形能量分析仪,
带电源的高压X射线双阳极单色源,
带电源的高压X射线双阳极非单色源,
带电源的紫外单声道光源,
带电源的紫外线源,
带电源的中和源,
带电源的电子源,
离子源与电源,用于深度分析或清洁,
带电源的气体簇离子源,
具有宽温度范围的样品机械手(从 LHe/LN2 1400°C),
泵组(基于备用泵、TMP、离子泵和TSP,具有大面积LN2),
带设备的真空计,
线性传输系统的入口端口,例如从负载锁到分析室,
用于样品架的负载锁定室,
视口 – 观察窗口,
残余气体分析仪。
体现出的设计和功能取决于系统配置。
泵送系统是不同类型泵的组合,例如前真空泵、离子泵、涡轮泵或具有大面积 LN 的钛热升华泵2护罩,根据特定应用需求单独选择,以实现优异的泵送性能。
如果需要,该系统的模块化设计允许通过径向分配传输解决方案或传输隧道与任何其他研究平台组合和集成。
Spectrium 分析控制软件允许半球形能量分析仪和各种类型的源的集成和完美配合,从而轻松编写配方、自动测量控制和大量数据记录。允许基于 Tango 开源设备集成新的附加组件。
本高压光电子能谱(HPPES)系统是一款高度模块化、全自动化、宽压力与宽温区的表面分析平台。它在一个系统中集成了UHV与环境压力两种工作模式,支持从XPS/UPS/ARPES到AES/EELS/ISS等多种PES相关技术,
并可灵活配置激发源、分析器、样品处理及真空泵送模块。无论您需要原子级清洁表面的高分辨谱学,还是近实际反应条件下的原位监测,HPPES系统都能提供满足您研究需求的标准解决方案。如需进一步了解系统配
置、定制方案或报价,欢迎联系我们。
HPPES 高压光电子能谱系统适用于压力范围 2×10 -9mbar – 50 mbar的光电子能谱实验,样品温度可控。系统适用于在 UHV 或环境压力条件下分析各种纳米材料。
该系统包括一个分析室和一个负载锁定室,便于快速地加载样品。它提供完整的PLC保护和软件控制,包括机器状态的清晰可视化、数据采集以及所有集成设备、电源和辅助设备的控制。
光电子能谱(PES)是一种实验技术,也是电子能谱的主要变体。该方法基于光电现象和光电子动能分布分析。发射的能量是由表面样品被电磁辐射激发产生的。
PES 技术是较常用的表面测试和薄层检查方法。它提供的信息:定量成分、原子键特性、层厚度。基本过程(光效应)测量由于光子照射物质而产生的光电子发射。
包括分析性 PES 技术:
XPS – X 射线光电子能谱
HAXPES – 硬 X 射线光谱
UPS – 紫外光电子能谱
ARPES – 角度分辨光电子能谱
附加技术:
IPES – 逆光电子发射光谱
LEIP – 低能逆光电子能谱
AES – 螺旋电子能谱
EELS – 子能量损失光谱
ISS – 离子散射光谱
满足以下领域大多数研究需求的标准解决方案:
– XPS / UPS / ARPES / AES / EELS / ISS / IPES / LEIPS 技术 |特高压条件
– HPXPS / APXPS / APUPS 技术 |环境压力条件
实验程序完全自动化
回填配置
高压半球形能量分析仪 EA15-HP5 / EA15-HP50 带设备
高压、高功率双阳极 、X 射线源,带单色仪 – AlKα 和 AgLα,带电源
高压、高功率双阳极、非单色 X 射线源 – AlKα 和 MgKα,带电源
带电源的紫外线源
带电源的中和源
用于深度分析或清洁的离子源
电动或手动 4-6 轴机械手,接收站能够达到LHe/LN2高达 1400°C
不同的样品架尺寸:从 10×10 毫米到 2 英寸
分析室直径 310 毫米
基本压力降至 10-9mbar,取决于泵的配置
泵送系统(基于备用泵,带低温防护罩的 TMP 和 TSP)
全自动气体计量设置
带设备的真空计
样品架的负载锁定室
从load-lock到分析室的可靠、快速的线性传输系统
视口 – 观察窗口,带摄像头
烘烤系统
系统的可调节刚性主机架
带电子单元的 19 英寸机柜
通过 Spectrium 软件和 PLC 单元完全控制分析过程和设备
分析室配备了符合特高压标准的连接法兰,用于连接当前和未来的设备,包括:
带设备的高压半球形能量分析仪,
带电源的高压X射线双阳极单色源,
带电源的高压X射线双阳极非单色源,
带电源的紫外单声道光源,
带电源的紫外线源,
带电源的中和源,
带电源的电子源,
离子源与电源,用于深度分析或清洁,
带电源的气体簇离子源,
具有宽温度范围的样品机械手(从 LHe/LN2 1400°C),
泵组(基于备用泵、TMP、离子泵和TSP,具有大面积LN2),
带设备的真空计,
线性传输系统的入口端口,例如从负载锁到分析室,
用于样品架的负载锁定室,
视口 – 观察窗口,
残余气体分析仪。
体现出的设计和功能取决于系统配置。
泵送系统是不同类型泵的组合,例如前真空泵、离子泵、涡轮泵或具有大面积 LN 的钛热升华泵2护罩,根据特定应用需求单独选择,以实现优异的泵送性能。
如果需要,该系统的模块化设计允许通过径向分配传输解决方案或传输隧道与任何其他研究平台组合和集成。
Spectrium 分析控制软件允许半球形能量分析仪和各种类型的源的集成和完美配合,从而轻松编写配方、自动测量控制和大量数据记录。允许基于 Tango 开源设备集成新的附加组件。
本高压光电子能谱(HPPES)系统是一款高度模块化、全自动化、宽压力与宽温区的表面分析平台。它在一个系统中集成了UHV与环境压力两种工作模式,支持从XPS/UPS/ARPES到AES/EELS/ISS等多种PES相关技术,
并可灵活配置激发源、分析器、样品处理及真空泵送模块。无论您需要原子级清洁表面的高分辨谱学,还是近实际反应条件下的原位监测,HPPES系统都能提供满足您研究需求的标准解决方案。如需进一步了解系统配
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