清空记录
历史记录
取消
清空记录
历史记录
浏览器自带分享功能也很好用哦~等离子体技术简介：
等离子体是指“电离气体”。当高能量施加到气体原子或分子上时，电子被敲落，形成由正负离子、自由基和光子组成的准中性混合物。由于等离子体具有自由运动的带电粒子，它对电场和磁场高度响应，展现出独特
的集体行为。如今，等离子体在工业领域发挥着至关重要的作用——在半导体制造中，超过70%的工艺依赖等离子体技术。通过利用等离子体的化学与物理性质，我们可以精确改变材料的表面性质。这是一项面向
未来的技术，不断推动新应用的开发。
本大气等离子体系统采用DBD（介电屏障放电） 产生原理，可在大气压环境下产生稳定、均匀的等离子体。系统配备13.56 MHz射频发生器、7英寸触摸屏控制器及150mm宽幅等离子体喷头，无需真空环境即可实现
对材料表面的清洗、活化、改性和涂覆预处理。其模块化设计支持XYZ机器人控制及卷对卷系统定制，适合实验室研发及工业在线生产。
技术规格：
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 等离子体产生原理 | DBD（介电屏障放电） |
| 等离子体类型 | 直接等离子体 |
| 工艺气体 | Ar、O₂ |
| 射频频率 | 13.56 MHz |
| 射频功率 | 600W（含自动阻抗匹配） |
| 有效处理宽度 | 150 mm |
| 样品板尺寸 | 450 mm × 450 mm |
| 样品高度 | < 3 mm |
| 气体通道 | 2通道（Ar / O₂） |
| Ar MFC流量 | 30 slm |
| O₂ MFC流量 | 100 sccm |
| 喷头冷却 | 水冷 |
| 喷头材质 | 5083系列铝合金 |
| 控制器 | 7英寸触摸屏 PC |
| 操作模式 | 自动 / 手动 |
| 软件功能 | 配方保存/加载、实时流程图、错误监控 |
| 定制选项 | XYZ机器人控制、卷对卷系统 |
星空网页版规格对比：
| 规格参数 | Wide-Flux 150 | Wide-Flux 400 |
|---|---|---|
| 载物台尺寸 | 180 mm × 180 mm | 450 mm × 450 mm |
| 有效处理宽度 | 150 mm | 400 mm |
| 允许样品高度 | < 3 mm | < 3 mm |
| 工艺气体 | Ar (30 slm), O₂ (100 sccm) | Ar (30 slm), O₂ (100 sccm) |
| 射频发生器 | 13.56 MHz / 300W | 13.56 MHz / 600W |
| 操作方式 | 手动 & 自动 | 手动 & 自动 |
| 设备尺寸（宽×深×高） | 470 × 660 × 600 mm | 620 × 750 × 600 mm |
Wide-Flux系列大气等离子体系统广泛应用于以下领域：
| 应用领域 | 典型用途 |
|---|---|
| 半导体与电子 | 晶圆表面清洗、光刻胶残留去除、引线框架活化 |
| 显示器件 | OLED、LCD基板表面活化与除尘 |
| 印刷与包装 | 塑料、薄膜表面改性，提升油墨、胶粘剂附着力 |
| 汽车制造 | 塑料件、密封条、车灯等表面预处理，增强粘接强度 |
| 医疗器械 | 植入物表面亲水化处理、器械清洗 |
| 纺织与复合材料 | 织物表面功能化、纤维增强复合材料界面改性 |
| 卷对卷工艺 | 柔性电子、薄膜太阳能电池连续表面处理（可配套定制） |
Wide-Flux系列大气等离子体系统以DBD直接等离子体技术为内核，在大气压环境下实现对材料表面的高效、均匀处理。Wide-Flux 150 适合研发与小尺寸样品处理，Wide-Flux 400 则满足大面积、高吞吐量的工业需求。
两款设备均具备精密气体控制、稳定射频电源、灵活操作方式及紧凑台式设计，是表面活化、清洗和改性的理想选择。如需进一步了解技术细节、定制方案或报价，欢迎联系我们。
大气等离子体表面活化系统
等离子体技术简介：
等离子体是指“电离气体”。当高能量施加到气体原子或分子上时，电子被敲落，形成由正负离子、自由基和光子组成的准中性混合物。由于等离子体具有自由运动的带电粒子，它对电场和磁场高度响应，展现出独特
的集体行为。如今，等离子体在工业领域发挥着至关重要的作用——在半导体制造中，超过70%的工艺依赖等离子体技术。通过利用等离子体的化学与物理性质，我们可以精确改变材料的表面性质。这是一项面向
未来的技术，不断推动新应用的开发。
本大气等离子体系统采用DBD（介电屏障放电） 产生原理，可在大气压环境下产生稳定、均匀的等离子体。系统配备13.56 MHz射频发生器、7英寸触摸屏控制器及150mm宽幅等离子体喷头，无需真空环境即可实现
对材料表面的清洗、活化、改性和涂覆预处理。其模块化设计支持XYZ机器人控制及卷对卷系统定制，适合实验室研发及工业在线生产。
技术规格：
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 等离子体产生原理 | DBD（介电屏障放电） |
| 等离子体类型 | 直接等离子体 |
| 工艺气体 | Ar、O₂ |
| 射频频率 | 13.56 MHz |
| 射频功率 | 600W（含自动阻抗匹配） |
| 有效处理宽度 | 150 mm |
| 样品板尺寸 | 450 mm × 450 mm |
| 样品高度 | < 3 mm |
| 气体通道 | 2通道（Ar / O₂） |
| Ar MFC流量 | 30 slm |
| O₂ MFC流量 | 100 sccm |
| 喷头冷却 | 水冷 |
| 喷头材质 | 5083系列铝合金 |
| 控制器 | 7英寸触摸屏 PC |
| 操作模式 | 自动 / 手动 |
| 软件功能 | 配方保存/加载、实时流程图、错误监控 |
| 定制选项 | XYZ机器人控制、卷对卷系统 |
星空网页版规格对比：
| 规格参数 | Wide-Flux 150 | Wide-Flux 400 |
|---|---|---|
| 载物台尺寸 | 180 mm × 180 mm | 450 mm × 450 mm |
| 有效处理宽度 | 150 mm | 400 mm |
| 允许样品高度 | < 3 mm | < 3 mm |
| 工艺气体 | Ar (30 slm), O₂ (100 sccm) | Ar (30 slm), O₂ (100 sccm) |
| 射频发生器 | 13.56 MHz / 300W | 13.56 MHz / 600W |
| 操作方式 | 手动 & 自动 | 手动 & 自动 |
| 设备尺寸（宽×深×高） | 470 × 660 × 600 mm | 620 × 750 × 600 mm |
Wide-Flux系列大气等离子体系统广泛应用于以下领域：
| 应用领域 | 典型用途 |
|---|---|
| 半导体与电子 | 晶圆表面清洗、光刻胶残留去除、引线框架活化 |
| 显示器件 | OLED、LCD基板表面活化与除尘 |
| 印刷与包装 | 塑料、薄膜表面改性，提升油墨、胶粘剂附着力 |
| 汽车制造 | 塑料件、密封条、车灯等表面预处理，增强粘接强度 |
| 医疗器械 | 植入物表面亲水化处理、器械清洗 |
| 纺织与复合材料 | 织物表面功能化、纤维增强复合材料界面改性 |
| 卷对卷工艺 | 柔性电子、薄膜太阳能电池连续表面处理（可配套定制） |
Wide-Flux系列大气等离子体系统以DBD直接等离子体技术为内核，在大气压环境下实现对材料表面的高效、均匀处理。Wide-Flux 150 适合研发与小尺寸样品处理，Wide-Flux 400 则满足大面积、高吞吐量的工业需求。
两款设备均具备精密气体控制、稳定射频电源、灵活操作方式及紧凑台式设计，是表面活化、清洗和改性的理想选择。如需进一步了解技术细节、定制方案或报价，欢迎联系我们。
沪ICP备2025150052号-1