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该触摸屏控制系统的转速范围为100~7000rpm,精度±1%,具备20步程序控制系统及时间控制功能(0.1~999.9秒)。设备包含14英寸碗腔,可处理小片至8英寸晶圆样品,配备PE材料真空吸盘及直流伺服马达,并集成
无油真空泵。此外,设备还具备自锁腔盖、废液收集瓶、自动注射装置等特性,适用于多种化学溶液供应需求。
Touch panel control System 触摸屏控制系统
1) Spin speed : 100~7000rpm ±1% (@ No load )转速:100~7000rpm ±1% (空载)
2) Programmable Coating System : 20steps, 20 Recipes (Save & load) 程序控制系统: 20步,20个菜单 (存储和调用)
3) Time : 0.1~999.9sec (Programmable) 时间控制:0.1~999.9sec
4) Bowl size : 14 inch 碗腔直径:14英寸
5) Sample size : piece ~ 8 inch wafer 样品尺寸:小片—8英寸
6) Vacuum chuck : PE 1ea 真空吸盘:PE材料,1个
7) Motor : DC Servo Motor 直流伺服马达
8) External : STS Main Body STS主机材质
9) Oil-less Vacuum Pump 1ea (Include) 含无油真空泵
10) Acceleration/Deceleration rates : Variable Time (0.1sec step) 加速度:0.1sec每步
11) Cover Inter-Lock 腔盖自锁
12) Direct to Exhaust & Drain Bottle 排泄废液收集瓶
13) Dispenser Arm ,Nozzle & 2ℓ Bottle in Stainless Steel Chemical Supply Pressurizing Tank 自动注射装置:操作杆,喷嘴,2升注液瓶,不锈钢压力罐
1 nozzle : Developer 一路喷头,用于显影液
2 nozzle : D.I Water 第二路喷头,用于去离子水
3 nozzle : N2 第三路喷头,用于氮气
优势与特点:
宽范围高精度转速控制,转速范围 100~7000 rpm,精度高达 ±1%(空载),满足从低转速匀胶到高速干燥的多种工艺需求。
可编程涂覆系统,支持 20步 程序控制,可存储 20个配方(菜单),具备保存与调用功能,方便工艺参数快速切换与重复。
精确时间控制,时间设定范围 0.1~999.9 秒(可编程),步进精度0.1秒,确保每步工艺时间准确可控。
灵活的加速/减速控制,加速度/减速度可调,每步0.1秒,实现平稳启停,避免胶层不均或图案变形。
宽泛的样品兼容性,可处理从小片到8英寸晶圆的多种样品,适配性强,满足不同尺寸基板的涂覆需求。
耐腐蚀腔体与安全保护,14英寸碗腔,空间充裕,STS不锈钢主机材质,坚固耐腐蚀,PE材料真空吸盘,有效吸附固定样品,腔盖自锁(Cover Inter-Lock) 功能,防止误开启,保障操作安全。
完备的溶液与废液管理,配备自动注射装置:操作杆、喷嘴、2升注液瓶及不锈钢压力罐,支持多路化学溶液供应,标配3路喷头:显影液、去离子水、氮气(N₂),设有废液收集瓶及直排排气通道,方便废液回收与废气排放。
集成无油真空泵,设备标配无油真空泵,提供洁净真空源,避免油污污染样品及环境。
直流伺服马达驱动,采用直流伺服马达,启停平稳,转速响应迅速,长期运行稳定可靠。
本触摸屏控制匀胶系统广泛应用于以下研究与生产领域:
| 领域 | 典型应用 |
|---|---|
| 半导体制造 | 光刻胶涂布、显影、清洗 |
| 微机电系统 | MEMS器件制备中的薄膜涂覆 |
| LED与光电器件 | 蓝宝石、GaN基片匀胶 |
| 纳米技术与科研 | 实验室新材料、新工艺的旋涂研发 |
| 生物芯片与微流控 | 聚合物、光刻胶的均匀成膜 |
| 显示器件 | OLED、液晶显示器的取向层涂布 |
本触摸屏控制匀胶显影系统以宽转速范围、高精度控制、可编程流程、完备溶液管理及坚固耐腐蚀结构为优势,为半导体、MEMS、光电及纳米技术领域提供了可靠、灵活、易操作的匀胶解决方案。其14英寸腔体兼容小片至8
英寸晶圆,配合直流伺服马达与无油真空泵,确保工艺重复性与样品洁净度,适用于研发与中试生产环境。如需进一步了解星空网页版配置、定制喷嘴或报价,欢迎联系我们。
该触摸屏控制系统的转速范围为100~7000rpm,精度±1%,具备20步程序控制系统及时间控制功能(0.1~999.9秒)。设备包含14英寸碗腔,可处理小片至8英寸晶圆样品,配备PE材料真空吸盘及直流伺服马达,并集成
无油真空泵。此外,设备还具备自锁腔盖、废液收集瓶、自动注射装置等特性,适用于多种化学溶液供应需求。
Touch panel control System 触摸屏控制系统
1) Spin speed : 100~7000rpm ±1% (@ No load )转速:100~7000rpm ±1% (空载)
2) Programmable Coating System : 20steps, 20 Recipes (Save & load) 程序控制系统: 20步,20个菜单 (存储和调用)
3) Time : 0.1~999.9sec (Programmable) 时间控制:0.1~999.9sec
4) Bowl size : 14 inch 碗腔直径:14英寸
5) Sample size : piece ~ 8 inch wafer 样品尺寸:小片—8英寸
6) Vacuum chuck : PE 1ea 真空吸盘:PE材料,1个
7) Motor : DC Servo Motor 直流伺服马达
8) External : STS Main Body STS主机材质
9) Oil-less Vacuum Pump 1ea (Include) 含无油真空泵
10) Acceleration/Deceleration rates : Variable Time (0.1sec step) 加速度:0.1sec每步
11) Cover Inter-Lock 腔盖自锁
12) Direct to Exhaust & Drain Bottle 排泄废液收集瓶
13) Dispenser Arm ,Nozzle & 2ℓ Bottle in Stainless Steel Chemical Supply Pressurizing Tank 自动注射装置:操作杆,喷嘴,2升注液瓶,不锈钢压力罐
1 nozzle : Developer 一路喷头,用于显影液
2 nozzle : D.I Water 第二路喷头,用于去离子水
3 nozzle : N2 第三路喷头,用于氮气
优势与特点:
宽范围高精度转速控制,转速范围 100~7000 rpm,精度高达 ±1%(空载),满足从低转速匀胶到高速干燥的多种工艺需求。
可编程涂覆系统,支持 20步 程序控制,可存储 20个配方(菜单),具备保存与调用功能,方便工艺参数快速切换与重复。
精确时间控制,时间设定范围 0.1~999.9 秒(可编程),步进精度0.1秒,确保每步工艺时间准确可控。
灵活的加速/减速控制,加速度/减速度可调,每步0.1秒,实现平稳启停,避免胶层不均或图案变形。
宽泛的样品兼容性,可处理从小片到8英寸晶圆的多种样品,适配性强,满足不同尺寸基板的涂覆需求。
耐腐蚀腔体与安全保护,14英寸碗腔,空间充裕,STS不锈钢主机材质,坚固耐腐蚀,PE材料真空吸盘,有效吸附固定样品,腔盖自锁(Cover Inter-Lock) 功能,防止误开启,保障操作安全。
完备的溶液与废液管理,配备自动注射装置:操作杆、喷嘴、2升注液瓶及不锈钢压力罐,支持多路化学溶液供应,标配3路喷头:显影液、去离子水、氮气(N₂),设有废液收集瓶及直排排气通道,方便废液回收与废气排放。
集成无油真空泵,设备标配无油真空泵,提供洁净真空源,避免油污污染样品及环境。
直流伺服马达驱动,采用直流伺服马达,启停平稳,转速响应迅速,长期运行稳定可靠。
本触摸屏控制匀胶系统广泛应用于以下研究与生产领域:
| 领域 | 典型应用 |
|---|---|
| 半导体制造 | 光刻胶涂布、显影、清洗 |
| 微机电系统 | MEMS器件制备中的薄膜涂覆 |
| LED与光电器件 | 蓝宝石、GaN基片匀胶 |
| 纳米技术与科研 | 实验室新材料、新工艺的旋涂研发 |
| 生物芯片与微流控 | 聚合物、光刻胶的均匀成膜 |
| 显示器件 | OLED、液晶显示器的取向层涂布 |
本触摸屏控制匀胶显影系统以宽转速范围、高精度控制、可编程流程、完备溶液管理及坚固耐腐蚀结构为优势,为半导体、MEMS、光电及纳米技术领域提供了可靠、灵活、易操作的匀胶解决方案。其14英寸腔体兼容小片至8
英寸晶圆,配合直流伺服马达与无油真空泵,确保工艺重复性与样品洁净度,适用于研发与中试生产环境。如需进一步了解星空网页版配置、定制喷嘴或报价,欢迎联系我们。
