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全自动匀胶显影系统
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本全自动匀胶显影系统为触摸屏控制系统,是一款高精度、智能化的匀胶设备,专为半导体及微电子工艺中的光刻胶涂布、显影及清洗而设计。系统采用14英寸碗腔与直流伺服马达驱动,支持小片至8英寸晶圆样品处理。配备直观的触摸屏操作界面、可编程控制系统及完备的溶液供应模块,为实验室研发及小批量生产提供稳定可靠的匀胶解决方案。
星空网页版详情

该触摸屏控制系统的转速范围为100~7000rpm,精度±1%,具备20步程序控制系统及时间控制功能(0.1~999.9秒)。设备包含14英寸碗腔,可处理小片至8英寸晶圆样品,配备PE材料真空吸盘及直流伺服马达,并集成

无油真空泵。此外,设备还具备自锁腔盖、废液收集瓶、自动注射装置等特性,适用于多种化学溶液供应需求。

Touch panel control System  触摸屏控制系统

1) Spin speed : 100~7000rpm ±1% (@ No load )转速:100~7000rpm ±1% (空载)

2) Programmable Coating System : 20steps, 20 Recipes (Save & load)   程序控制系统: 20步,20个菜单 (存储和调用)        

3) Time : 0.1~999.9sec (Programmable)  时间控制:0.1~999.9sec

4) Bowl size : 14 inch   碗腔直径:14英寸

5) Sample size : piece ~ 8 inch wafer   样品尺寸:小片—8英寸

6) Vacuum chuck : PE 1ea   真空吸盘:PE材料,1个

7) Motor : DC Servo Motor  直流伺服马达

8) External : STS Main Body   STS主机材质

9) Oil-less Vacuum Pump 1ea (Include)   含无油真空泵

10) Acceleration/Deceleration rates : Variable Time (0.1sec step) 加速度:0.1sec每步

11) Cover Inter-Lock  腔盖自锁

12) Direct to Exhaust & Drain Bottle  排泄废液收集瓶

13) Dispenser Arm ,Nozzle & 2ℓ Bottle in Stainless Steel Chemical Supply Pressurizing Tank   自动注射装置:操作杆,喷嘴,2升注液瓶,不锈钢压力罐

  1 nozzle : Developer     一路喷头,用于显影液

  2 nozzle : D.I Water      第二路喷头,用于去离子水

  3 nozzle : N2     第三路喷头,用于氮气

优势与特点:

  • 宽范围高精度转速控制,转速范围 100~7000 rpm,精度高达 ±1%(空载),满足从低转速匀胶到高速干燥的多种工艺需求。

  • 可编程涂覆系统,支持 20步 程序控制,可存储 20个配方(菜单),具备保存与调用功能,方便工艺参数快速切换与重复。

  • 精确时间控制,时间设定范围 0.1~999.9 秒(可编程),步进精度0.1秒,确保每步工艺时间准确可控。

  • 灵活的加速/减速控制,加速度/减速度可调,每步0.1秒,实现平稳启停,避免胶层不均或图案变形。

  • 宽泛的样品兼容性,可处理从小片8英寸晶圆的多种样品,适配性强,满足不同尺寸基板的涂覆需求。

  • 耐腐蚀腔体与安全保护,14英寸碗腔,空间充裕,STS不锈钢主机材质,坚固耐腐蚀,PE材料真空吸盘,有效吸附固定样品,腔盖自锁(Cover Inter-Lock) 功能,防止误开启,保障操作安全。

  • 完备的溶液与废液管理,配备自动注射装置:操作杆、喷嘴、2升注液瓶及不锈钢压力罐,支持多路化学溶液供应,标配3路喷头:显影液、去离子水、氮气(N₂),设有废液收集瓶及直排排气通道,方便废液回收与废气排放。

  • 集成无油真空泵,设备标配无油真空泵,提供洁净真空源,避免油污污染样品及环境。

  • 直流伺服马达驱动,采用直流伺服马达,启停平稳,转速响应迅速,长期运行稳定可靠。

本触摸屏控制匀胶系统广泛应用于以下研究与生产领域:

领域典型应用
半导体制造光刻胶涂布、显影、清洗
微机电系统MEMS器件制备中的薄膜涂覆
LED与光电器件蓝宝石、GaN基片匀胶
纳米技术与科研实验室新材料、新工艺的旋涂研发
生物芯片与微流控聚合物、光刻胶的均匀成膜
显示器件OLED、液晶显示器的取向层涂布

本触摸屏控制匀胶显影系统以宽转速范围、高精度控制、可编程流程、完备溶液管理及坚固耐腐蚀结构为优势,为半导体、MEMS、光电及纳米技术领域提供了可靠、灵活、易操作的匀胶解决方案。其14英寸腔体兼容小片至8

英寸晶圆,配合直流伺服马达与无油真空泵,确保工艺重复性与样品洁净度,适用于研发与中试生产环境。如需进一步了解星空网页版配置、定制喷嘴或报价,欢迎联系我们。




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本全自动匀胶显影系统为触摸屏控制系统,是一款高精度、智能化的匀胶设备,专为半导体及微电子工艺中的光刻胶涂布、显影及清洗而设计。系统采用14英寸碗腔与直流伺服马达驱动,支持小片至8英寸晶圆样品处理。配备直观的触摸屏操作界面、可编程控制系统及完备的溶液供应模块,为实验室研发及小批量生产提供稳定可靠的匀胶解决方案。
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该触摸屏控制系统的转速范围为100~7000rpm,精度±1%,具备20步程序控制系统及时间控制功能(0.1~999.9秒)。设备包含14英寸碗腔,可处理小片至8英寸晶圆样品,配备PE材料真空吸盘及直流伺服马达,并集成

无油真空泵。此外,设备还具备自锁腔盖、废液收集瓶、自动注射装置等特性,适用于多种化学溶液供应需求。

Touch panel control System  触摸屏控制系统

1) Spin speed : 100~7000rpm ±1% (@ No load )转速:100~7000rpm ±1% (空载)

2) Programmable Coating System : 20steps, 20 Recipes (Save & load)   程序控制系统: 20步,20个菜单 (存储和调用)        

3) Time : 0.1~999.9sec (Programmable)  时间控制:0.1~999.9sec

4) Bowl size : 14 inch   碗腔直径:14英寸

5) Sample size : piece ~ 8 inch wafer   样品尺寸:小片—8英寸

6) Vacuum chuck : PE 1ea   真空吸盘:PE材料,1个

7) Motor : DC Servo Motor  直流伺服马达

8) External : STS Main Body   STS主机材质

9) Oil-less Vacuum Pump 1ea (Include)   含无油真空泵

10) Acceleration/Deceleration rates : Variable Time (0.1sec step) 加速度:0.1sec每步

11) Cover Inter-Lock  腔盖自锁

12) Direct to Exhaust & Drain Bottle  排泄废液收集瓶

13) Dispenser Arm ,Nozzle & 2ℓ Bottle in Stainless Steel Chemical Supply Pressurizing Tank   自动注射装置:操作杆,喷嘴,2升注液瓶,不锈钢压力罐

  1 nozzle : Developer     一路喷头,用于显影液

  2 nozzle : D.I Water      第二路喷头,用于去离子水

  3 nozzle : N2     第三路喷头,用于氮气

优势与特点:

  • 宽范围高精度转速控制,转速范围 100~7000 rpm,精度高达 ±1%(空载),满足从低转速匀胶到高速干燥的多种工艺需求。

  • 可编程涂覆系统,支持 20步 程序控制,可存储 20个配方(菜单),具备保存与调用功能,方便工艺参数快速切换与重复。

  • 精确时间控制,时间设定范围 0.1~999.9 秒(可编程),步进精度0.1秒,确保每步工艺时间准确可控。

  • 灵活的加速/减速控制,加速度/减速度可调,每步0.1秒,实现平稳启停,避免胶层不均或图案变形。

  • 宽泛的样品兼容性,可处理从小片8英寸晶圆的多种样品,适配性强,满足不同尺寸基板的涂覆需求。

  • 耐腐蚀腔体与安全保护,14英寸碗腔,空间充裕,STS不锈钢主机材质,坚固耐腐蚀,PE材料真空吸盘,有效吸附固定样品,腔盖自锁(Cover Inter-Lock) 功能,防止误开启,保障操作安全。

  • 完备的溶液与废液管理,配备自动注射装置:操作杆、喷嘴、2升注液瓶及不锈钢压力罐,支持多路化学溶液供应,标配3路喷头:显影液、去离子水、氮气(N₂),设有废液收集瓶及直排排气通道,方便废液回收与废气排放。

  • 集成无油真空泵,设备标配无油真空泵,提供洁净真空源,避免油污污染样品及环境。

  • 直流伺服马达驱动,采用直流伺服马达,启停平稳,转速响应迅速,长期运行稳定可靠。

本触摸屏控制匀胶系统广泛应用于以下研究与生产领域:

领域典型应用
半导体制造光刻胶涂布、显影、清洗
微机电系统MEMS器件制备中的薄膜涂覆
LED与光电器件蓝宝石、GaN基片匀胶
纳米技术与科研实验室新材料、新工艺的旋涂研发
生物芯片与微流控聚合物、光刻胶的均匀成膜
显示器件OLED、液晶显示器的取向层涂布

本触摸屏控制匀胶显影系统以宽转速范围、高精度控制、可编程流程、完备溶液管理及坚固耐腐蚀结构为优势,为半导体、MEMS、光电及纳米技术领域提供了可靠、灵活、易操作的匀胶解决方案。其14英寸腔体兼容小片至8

英寸晶圆,配合直流伺服马达与无油真空泵,确保工艺重复性与样品洁净度,适用于研发与中试生产环境。如需进一步了解星空网页版配置、定制喷嘴或报价,欢迎联系我们。




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