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UHV磁控溅射源

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UHV磁控溅射源 UHV磁控溅射源 UHV磁控溅射源

UHV磁控溅射源

    UHV磁控溅射源是高质量的磁控溅射源,用于超高真空应用的圆形磁控管,可以单独提供,也可以集成到定制的真空系统中。这些圆形磁控溅射源与所有 UHV 系统兼容。

主要特点:

  • 可烘烤至 250°C(无需移除磁铁)
  • 高达 40% 的出色靶材利用率
  • 用于磁性材料的标准和高强度磁体
  • 平衡或不平衡磁体配置的选项
  • 简单的卡口夹,便于直接安装目标
  • 包括手动或气动控制快门之间的选择
  • 可用的溅射靶尺寸:1 英寸、2 英寸和 3 英寸
  • 用户友好的设计,带有易于更换的磁铁
  • 可定制的真空长度
  • 兼容 DC、RF、脉冲直流(单极或双极)和 HiPIMS 电源

规格

恒星源1.0″2.0″3.0″
安装法兰 (CF (O.D.)4.5 英寸6.0 英寸6.0 英寸
114 毫米152   毫米152   毫米
NW63CFNW100CFNW100CF
兼容 UHV是的,可在高达 250°C 的温度下烘烤(无需移除磁铁)
真空长度200 毫米或 300 毫米 – 可根据要求提供特殊长度
源头的真空直径45 毫米72 毫米93 毫米
目标大小1.0 英寸(25 毫米)2.0 英寸(50 毫米)3.0 英寸(75 毫米)
目标物厚度(使用标准磁铁的非磁性目标物) 最大 3 毫米最大 3 毫米最大 3 毫米
目标物厚度(带有强磁铁的非磁性目标物)不适用最大 7 毫米最大 7 毫米
目标物厚度(带有强磁铁的磁性目标物)不可用 –最大 1 毫米最大 2 毫米
0.4mm,带标准

磁性元件
磁铁对于磁性或非磁性材料,平衡或不平衡,用户可以轻松
更换
电源直流、射频、脉冲直流(单极或双极)、HiPIMS
快门一体式手动或可选气动操作
冷却最小水流量为 1 I/min





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